半导体XRD薄膜测试-单晶XRD检测机构

xrd可以测量块状和粉末状的样品，单晶xrd检测机构，对于不同的样品尺寸和样品性质有不同的要求，下面对不同样品的制备要求作简要介绍。
1、金属样品如块状、板状、圆拄状要求磨成一个平面，面积不小于10x10毫米，西藏自治单晶xrd检测，如果面积太小可以用几块粘贴一起。
2、对于片状、圆拄状样品会存在---的择优取向，衍射强度异常。因此要求测试时合理选择响应的方向平面。
3、对于测量金属样品的微观应力晶格畸变，测量残余奥氏体，要求样品不能简单粗磨，要求制备成金相样品，并进行普通抛光或电解抛光，消除表面应变层。
4、粉末样品要求在3克左右，如果太少也需5毫克。要求磨成320目的粒度，约40微米。粒度粗大衍射强度底，峰形不好，分辨率低。要了解样品的物理化学性质，如是否，易潮解，易腐蚀、有毒、易挥发。
5、对于不同基体的薄膜样品，要了解检验确定基片的取向，x射线测量的膜厚度约20个纳米。
6、对于纤维样品的测试应该提出测试纤维的照射方向，是平行照射还是垂直照射，因为取向不同衍射强度也不相同。
7、对于焊接材料，如断口、焊缝表面的衍射分析，要求断口相对平整。